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光學(xué)薄膜測(cè)厚儀

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產(chǎn)品名稱:
光學(xué)薄膜測(cè)厚儀

產(chǎn)品概要: 薄膜表面或界面的反射光會(huì)與從基底的反射光相干涉,干涉的發(fā)生與膜厚及折光系數(shù)等有關(guān),因此可通過計(jì)算得到薄膜的厚度。光干涉法是一種無損、精確且快速的光學(xué)薄膜厚度測(cè)量技術(shù),我們的薄膜測(cè)量系統(tǒng)采用光干涉原理測(cè)量薄膜厚度。 該產(chǎn)品是一款價(jià)格適中、功能強(qiáng)大的膜厚測(cè)量?jī)x器。近幾年,每年的全球銷售量都超過200臺(tái)。根據(jù)型號(hào)不同,測(cè)量范圍可以從10nm到250um,它最高可以同時(shí)測(cè)量4個(gè)膜層中的3個(gè)膜層厚度(其中一層為基底材料)。該產(chǎn)品可應(yīng)用于在線膜厚測(cè)量,測(cè)氧化物、SiNx、感光保護(hù)膜和半導(dǎo)體膜,也可以用來測(cè)量鍍?cè)阡摗X、銅、陶瓷和塑料等上的粗糙膜層。
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參數(shù)

光反射薄膜測(cè)厚儀
原產(chǎn)國(guó):美國(guó)
薄膜表面或界面的反射光會(huì)與從基底的反射光相干涉,干涉的發(fā)生與膜厚及折光系數(shù)等有關(guān),因此可通過計(jì)算得到薄膜的厚度。光干涉法是一種無損、精確且快速的光學(xué)薄膜厚度測(cè)量技術(shù),我們的薄膜測(cè)量系統(tǒng)采用光干涉原理測(cè)量薄膜厚度。
該產(chǎn)品是一款價(jià)格適中、功能強(qiáng)大的膜厚測(cè)量?jī)x器。近幾年,每年的全球銷售量都超過200臺(tái)。根據(jù)型號(hào)不同,測(cè)量范圍可以從10nm到250um,它最高可以同時(shí)測(cè)量4個(gè)膜層中的3個(gè)膜層厚度(其中一層為基底材料)。該產(chǎn)品可應(yīng)用于在線膜厚測(cè)量,測(cè)氧化物、SiNx、感光保護(hù)膜和半導(dǎo)體膜,也可以用來測(cè)量鍍?cè)阡?、鋁、銅、陶瓷和塑料等上的粗糙膜層。
 
應(yīng)用領(lǐng)域

理論上講,我們的光干涉膜厚儀可以測(cè)量所有透光或半透光薄膜的厚度。以下為我們最熟悉的應(yīng)用領(lǐng)域(半導(dǎo)體薄膜,光學(xué)薄膜涂層,在線原位測(cè)量,粗糙或弧度表面測(cè)量):
- 晶片或玻璃表面的介電絕緣層(SiO2, Si3N4, Photo-resist, ITO, ...);
- 晶片或玻璃表面超薄金屬層(Ag, Al, Au, Ti, ...);
- DLC(Diamond Like Carbon)硬涂層;SOI硅片;
- MEMs厚層薄膜(100μm up to 250μm);
- DVD/CD涂層;
- 光學(xué)鏡頭涂層;
- SOI硅片;
- 金屬箔;
- 晶片與Mask間氣層;
- 減薄的晶片(< 120μm);
- 瓶子或注射器等帶弧度的涂層;
- 薄膜工業(yè)的在線過程控制;等等…

 

軟件功能
豐富的材料庫:操作軟件的材料庫帶有大量材料的n和k數(shù)據(jù),基本上的常用材料都包括在這個(gè)材料庫中。用戶也可以在材料庫中輸入沒有的材料。
軟件操作簡(jiǎn)單、測(cè)速快:膜厚測(cè)量?jī)x操作非常簡(jiǎn)單,測(cè)量速度快:100ms-1s.
軟件針對(duì)不同等級(jí)用戶設(shè)有一般用戶權(quán)限和管理者權(quán)限。
軟件帶有構(gòu)建材料結(jié)構(gòu)的拓展功能,可對(duì)單/多層薄膜數(shù)據(jù)進(jìn)行擬合分析,可對(duì)薄膜材料進(jìn)行預(yù)先模擬設(shè)計(jì)。
軟件帶有可升級(jí)的掃描功能,進(jìn)行薄膜二維的測(cè)試,并將結(jié)果以2D或3D的形式顯示。軟件其他的升級(jí)功能還包括在線分析軟件、遠(yuǎn)程控制模塊等。

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