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產(chǎn)品名稱： 光刻機/紫外曝光機 (Mask Aligner)
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產(chǎn)品展示
參數(shù)
光刻機又名：掩模對準曝光機，曝光系統(tǒng)，光刻系統(tǒng)，紫外曝光機等；ECOPIA為全球領先的半導體設備供應商，多年來致力于掩模對準光刻機和勻膠機研發(fā)與生產(chǎn)，并且廣泛應用于半導體、微電子、生物器件和納米科技領域；該公司是目前世界上最早將光刻機商品化的公司之一，擁有雄厚的技術研發(fā)力量和設備生產(chǎn)能力；并且其設備被眾多著名企業(yè)、研發(fā)中心、研究所和高校所采用；以優(yōu)秀的技術、精湛的工藝和良好的服務，贏得了用戶的青睞。
產(chǎn)地：韓國ECOPIA公司；
型號：M-150
技術規(guī)格：
- 掩模尺寸：最大7英寸；
- 樣品尺寸：最大6英寸；
- 卡盤移動：X,Y,Z,Theta軸手動，楔形補償調(diào)平；
- 紫外光源：6.25" X 6.25"；
- 光源功率：350瓦紫外燈；
- 光源均勻性：<+/-3%；
- 光源365nm波長強度：最大30毫瓦；
- 顯微鏡：雙顯微鏡系統(tǒng)；
- 顯微鏡移動：X,Y,Z軸手動調(diào)節(jié)；
- 顯微鏡物鏡空間：50-150mm；
- 標配放大倍率：80X-400X；
- 顯示器：20" LCD；
- 曝光時間：0.1-999秒；
- 接觸模式：真空接觸，硬接觸，軟接觸，接近接觸(距離可調(diào))；
- 對準精度：1um (Vacuum Contact), 1.5um(Hard Contact), 3um(Soft Contact), 5um(Proximity Mode)；
- 電源：220V，單相，15安培；
主要特點:
- 光源強度可控；
- 紫外曝光，深紫外曝光(Option)；
- 系統(tǒng)控制：手動、半自動和全自動控制；
- 曝光模式：真空接觸模式(接觸力可調(diào)),Proximity接近模式, 投影模式；
- 真空吸盤范圍可調(diào)；
- 專利技術：可雙面對準，可雙面光刻，具有IR和CCD模式
- 雙CCD顯微鏡系統(tǒng)，最大放大1000倍，顯示屏直接調(diào)節(jié)，比傳統(tǒng)目鏡對準更方便快捷，易于操作。
- 特殊的基底卡盤可定做；
- 具有楔形補償功能；
關鍵詞:
光刻機，紫外曝光機
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